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精密洗浄技術
精密洗浄技術
継続的に向上している半導体制の要求に対応するために、アメリカ、日本の一流技術の支持を頼りに、陶磁器の溶射技術の研究開発と量産を成功させました。
技術発展路線 技術及び設備の能力 生産プロセス 実用新案国家特許
  • 2000

    表面処理事業部発足。

  • 2001

    350nmプロセス半導体PVD、CVDおよびエッチャー装置部品洗浄プロセスを開発して、量産開始。

  • 2003

    250nmプロセス半導体PVD、CVDおよびエッチャー装置部品洗浄プロセスを開発、量産開始。

    精密洗浄技術開発センター設立。

  • 2005

    FPD製造装置部品洗浄業務開始。

  • 2007

    半導体およびFPDメーカとの取引拡大。

  • 2011

    天津富楽徳科技発展有限公司設立。

  • 2013

    45nmプロセス半導体製造装置部品の洗浄技術確立、量産開始。

    G8.5FPD製造装置部品量産開始。

  • 2015

    四川富楽徳科技発展有限公司設立。28nmプロセス導体製造装置部品の量産開始。

  • 2017

    富楽徳科技発展(大連)有限公司設立。

    G10.5液晶製造装置部品量産開始。

    アルミ溶射量産開始。

    G6H有機EL製造装置部品および16nmプロセス半導体製造装置部品の洗浄プロセス確立。

  • 2018

    富楽徳(大連)は大連工場の表面処理分析実験室の原形を建立し、超音波断層スキャン顕微鏡を投入し、CMM、He detector、

    電位滴定計、LPC及びICP MSなどのハイテク設備を設置し、高純英石英線を建設し、ハイエンド設備をオンラインする。