冷水机chiller-杭州大和热磁

FCP30021A

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。

FCP60022A

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。

FCP30023W

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。

FCP60024W

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。

FCP60024L30W

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。

FCP90026W

本设备性能优异，体积小、噪音低、耗电量低、热效率高且可根据需求定制，控制精度可达0.05℃，适用于温湿度控制良好的环境，具有定时运转、温度补偿、实现自我诊断等功能，且可实现过热、过载、缺水等多重报警功能，远程控制方便，可以实现RS232、RS485、ETH等多种不同通讯方式控制。广泛应用于半导体行业蚀刻装置，CMP（工艺机械抛光）实验室精密装置、高精度测试仪器、医美设备、固态激光器、模具温控等。